一、1.3~1.55μm GAInNAsSb Lasers（论文文献综述）
王健[1]（2021）在《覆层图案激光加工边缘锥角抑制与面域高效去除》文中研究说明精密表层图案是实现远程通讯、电路集成和信号采集等重要功能的基础结构。随着相关零件趋向面形复杂、刚度弱化、布线紧凑和材料广泛等特点,具有非接触、灵活性强、材料适用广等优点的激光加工成为表层图案主流加工方法。然而面对日益严苛的高精高效要求,亟需解决高斯能量分布引发斜坡状刻蚀边缘、跨尺度图案限制下面域蚀除效率低、单一扫描策略难以兼顾轮廓质量与进给速度等问题。鉴于此,本文开展了覆层图案激光加工边缘锥角抑制与面域高效去除研究,内容如下:首先,利用ANSYS及其APDL语言与生死单元技术,研究了激光热源准确加载方法并模拟了金属的移动脉冲激光烧蚀截面。仿真表明激光垂直刻蚀截面轮廓与激光能量分布高度相似,而倾斜刻蚀截面为明显非对称轮廓。鉴于有限元法求解耗时且灵活性差,发展了激光烧蚀截面轮廓解析计算模型并分析了典型刻蚀截面形状及成因,实验验证计算模型对微槽深宽度预测误差分别为3.3%和11.2%,而槽宽对扫描速度敏感性较差。其次,针对斜坡状刻蚀边缘问题,提出了“刻蚀+侧壁修整”激光铣削侧壁锥角抑制工艺。将激光烧蚀截面计算模型发展至倾斜入射工况,入射角<40°时微槽深宽度及侧壁锥角预测误差分别为3.8%、3.8%和6.7%。基于垂直侧壁目标和蚀深控制前提,建立了侧壁修整的光束-工件相对位姿、能量密度和扫描速度参数有序规划方法。加工的两类微槽在深宽度基本不变的同时侧壁锥角由34°和49°降至2°和3°,抑制度>90%。然后,为利用激光特性提升加工效率,提出了蚀深约束下“离焦+能量补偿”激光参数调控方法。建立了激光离焦烧蚀截面计算模型与溅射物轮廓参数化表征方法。综合考虑离焦和溅射物因素建立蚀深约束下的能量密度补偿方法。加工的微槽在保证深度同时宽度增大64.5%,且修正的烧蚀截面计算模型保留原有精度的同时对溅射物高度平均预测误差为8.6%,另外经过能量补偿后面域加工由几乎无深度变为深度符合要求。最后,鉴于单一扫描策略局限性,提出外区环扫+内区行扫的激光双扫描策略加工方法,考虑机床驱动能力建立了以图案轮廓等距偏置线为界的分区准则,并研究了面域激光加工行距估算方法。对于图案轮廓曲线为非一阶连续情况,开发了曲线去自交及曲线对去相交方法。实验表明加工图案轮廓平滑且中心区过烧由23μm降至1μm,结合离焦+能量补偿激光参数调控方法,加工时间较单一环扫策略减少28.6%。研究内容集成为表层图案激光精密加工软件,制备了多种薄壁曲面件内外壁表层图案。研究结果为制造基于表层功能图案的高新产品和激光加工技术创新提供借鉴。
杨帆[2]（2021）在《绝对式光栅尺可靠性研究与误差分析》文中提出高档数控机床被称为“大国重器”,作为重器之眼的绝对式光栅尺是决定数控机床精度的重要因素之一,所以它的可靠性与精度是数控机床厂家的重点关注对象。国产绝对式光栅尺起步较晚,如何提高国产绝对式光栅尺的可靠性与精度,达到国外产品的性能指标是国产绝对式光栅尺急需解决的问题。本文对国产绝对式光栅尺的可靠性与误差进行了相关研究,主要研究了绝对式光栅尺的关键技术、绝对式光栅尺的可靠性、绝对式光栅尺单周期内的位置误差和绝对式光栅尺全量程内的位置误差,具体内容包括以下5个方面:（1）研究了绝对式光栅尺的单轨绝对位置编码技术、莫尔条纹计量技术、单场扫描技术、专用集成光电器件技术和绝对式光栅尺的机械结构。（2）分析了绝对式光栅尺的主要故障模式及其可能产生的传递影响。研制了绝对式光栅尺的可靠性试验设备来考察绝对式光栅尺的可靠性。对绝对式光栅尺进行可靠性设计,包括尺壳与支撑件一体化等六个方面,以此来提高绝对式光栅尺的可靠性。对绝对式光栅尺进行环境试验,评估绝对式光栅尺的抗干扰能力和环境适应性。（3）研究了莫尔条纹信号质量与绝对式光栅尺单周期内位置误差的关系,分析了莫尔条纹信号的直流电平、等幅性、正交性、正弦性对单周期内位置误差的影响,结果表明:当四种误差源的偏差幅度一致时,正交性偏差对光栅尺单周期内位置误差影响最大,其次为直流电平偏差和正弦性偏差,等幅性偏差的影响最小,当各项误差源的偏差幅度低于20%时,可以用各项误差源独立引起的单周期内位置误差曲线叠加后的曲线近似表示单周期内位置误差。分析了影响绝对式光栅尺单周期内位置误差的因素。创新性地提出了三种减小绝对式光栅尺单周期内位置误差的方法:通过自制装调设备提高绝对式光栅尺的装调精度,ASIC器件与指示光栅的装调偏差小于1μm,指示光栅与标尺光栅的转角偏差小于0.05°;提出一种指示光栅的移相消谐波方法,通过在指示光栅上设计不同相位的明暗条纹组来降低莫尔条纹信号中的高次谐波含量,3次谐波占比由原来的2.77%下降到0.04%;提出一种基于光闸莫尔条纹方案的单场扫描方法,通过改变指示光栅增量窗口的排列方式来减小线性误差对正、余弦信号相位的影响,进而减小单周期内位置误差。（4）采用理论与试验相结合的方法研究了光栅副空间位置变化对单周期内位置误差的影响,结果表明:同样的角度,指示光栅绕z轴旋转后,信号幅值最小,单周期内最大位置误差最大;指示光栅绕x轴旋转后,信号幅值最大,单周期内最大位置误差最小。（5）研究了绝对式光栅尺全量程内位置误差的组成,主要包括标尺光栅误差、安装测量误差、温度误差和振动误差,研究每种误差的成因及减小措施。创新性地提出了三种减小绝对式光栅尺全量程内位置误差的方法:直接刻划1.5米母光栅减小长光栅的拼接误差;采用改进的母光栅拼接工艺提高拼接质量,拼接误差小于1μm;采用刚柔结合的尺壳固定方式减小固定孔对光栅尺温度特性的影响,既保证了光栅尺在数控机床上的固定刚性,又保证了光栅尺具有确定的和可重复的温度特性,方便数控机床厂家对光栅尺进行温度误差补偿。在试验室内对绝对式光栅尺进行基于数控系统的全量程内位置误差闭环测量,结果表明:激光干涉仪的反射镜放置在三个不同的位置时,绝对式光栅尺的重复定位精度均可以达到2μm。在同一台数控机床上对国产绝对式光栅尺与海德汉绝对式光栅尺进行重复定位精度、补偿后的定位精度、未补偿时的定位精度这几个指标的对比,结果表明:国产绝对式光栅尺三轴的重复定位精度都可以达到2.5μm,补偿后的定位精度都可以达到4μm,与海德汉光栅尺已经非常接近,完全可以满足数控机床厂家的使用需求。本文研究了提高绝对式光栅尺可靠性与精度的方法,对加快绝对式光栅尺的国产化进程具有重要的意义。
周扬[3]（2021）在《中国桃疮痂病菌遗传多样性、侵染过程、抗药性及早期检测技术研究》文中指出中国是桃产业大国,栽培面积和产量均为世界第一。然而,桃疮痂病在我国各桃产区普遍发生,造成桃品质下降、产量降低,对我国桃产业的健康发展构成严重威胁。本研究通过对我国14省、不同品种、不同发病部位的桃疮痂病样进行症状观察,对病原菌进行分离、鉴定、生物学研究,对病原菌种群进行遗传多样性分析;对桃疮痂病菌侵染桃叶片过程进行细胞学观察;同时,建立了一套桃疮痂病菌对杀菌剂敏感性的检测体系,并基于此系统调查了我国桃疮痂病菌对5种杀菌剂的敏感性;最后,成功开发了一种利用LAMP技术快速检测田间桃疮痂病样的方法。研究结果可为我国桃疮痂病的诊断和综合防治提供理论依据和技术支持,为系统研究桃疮痂病菌的致病机制奠定基础,为桃疮痂病抗病育种提供新的思路。取得的主要研究结果如下:1、中国桃疮痂病原种类及其遗传多样性分析。2017年至2019年从全国14省采集桃疮痂病样,从新疆、安徽采集苹果疮痂病样,从河北采集梨疮痂病样,从黑龙江采集海棠果疮痂病样,从华中农业大学果园采集梅和杏疮痂病样,采用单孢分离法获得单孢菌株950余株。选取其中的126株作为代表菌株进行形态学和多基因系统发育分析（ITS+LSU）。结果表明,供试的代表菌株被鉴定为Venturia属的4个不同的种,分别为Venturia carpophila、Venturia inaequalis、Venturia nashicola和Venturia asperata。其中,桃疮痂病（V.carpophila）、梅疮痂病（V.carpophila）、杏疮痂病（V.carpophila）和海棠果疮痂病（V.asperata）的病原鉴定为国内首次报道。对桃疮痂病样的田间症状进行系统观察,发现不同品种,不同生长阶段和不同地区的桃疮痂病样的发病症状有所不同。同时,桃疮痂病的发病症状与桃细菌性穿孔、桃黑斑病十分相似,特别是侵染早期极易混淆。将国内首次报道的4个新记录种进行科赫氏法则验证,结果均观察到了与田间一致的症状。分离自桃、杏和梅的V.carpophila菌株之间在生长速度、菌落形态、产孢量等方面表现出显着差异。进一步选取186株分离自不同寄主的V.carpophila进行遗传多样性分析,结果显示,我国的V.carpophila种群根据特定的寄主进行聚类,显示出种水平的寄主专化性。同时,来源于相同寄主的不同地理种群,不同品种或不同组织的种群间无明显差异,表明V.carpophila种群没有地理环境、品种或组织的专化性。2、V.carpophila侵染桃叶片过程研究。利用光学显微镜、激光共聚焦显微镜、扫描电镜和透射电镜,系统地描述了V.carpophila分生孢子在桃叶片上的侵染过程。结果表明,V.carpophila主要侵染桃叶片的背面。整个侵染过程可以分为三个主要阶段,即附着孢、侵入钉形成的侵入阶段,皮下菌丝、皮下子座形成的扩展阶段和分生孢子梗、分生孢子产生的繁殖体形成阶段。具体侵染过程为:2 dpi,V.carpophila分生孢子萌发产生芽管,芽管顶端膨大分化为附着孢,并被粘液物质覆盖吸附在桃叶片表面。3 dpi,附着孢向下分化出杯状结构的感染囊,并进一步发育为侵入钉。5 dpi,侵入钉穿透角质层后,分化成皮下菌丝,并在果胶层扩展。10 dpi,皮下菌丝在果胶层延伸,分化成皮下次生菌丝,并逐渐形成网状结构。15 dpi,皮下次生菌丝在果胶层不断扩展,并发生剧烈的形态变化,形成葡萄串状的皮下子座。30 dpi,皮下子座分化出分生孢子梗,并开始穿透角质层。40 dpi,大量分生孢子梗穿透角质层,并在顶端产生分生孢子。3、中国桃疮痂病菌对5种杀菌剂的敏感性测定。基于微孔板法经过优化,建立了V.carpophila对杀菌剂的敏感性检测体系。使用MEB培养液、初始孢子悬浮液浓度106个/m L、培养时间96 h。使用该检测体系,测定了135株V.carpophila对5种常用杀菌剂的敏感性。结果表明,异菌脲、丙环唑、嘧菌酯和啶酰菌胺的平均EC50分别为16.287μg/m L,0.165μg/m L,0.570μg/m L和0.136μg/m L。V.carpophila对上述4种杀菌剂的EC50值符合单峰分布,且未发现抗性菌株。然而,V.carpophila对多菌灵的EC50值为双峰分布,表明V.carpophila对多菌灵产生了抗药性,且抗性发生十分普遍,所有省份均发现抗性菌株。经分子检测发现高抗菌株的TUB2基因发生了E198K突变,中抗菌株的TUB2基因发生了E198G突变。中抗和高抗菌株抗性均稳定,抗性菌株未出现明显的适合度下降现象。相反,某些抗性菌株在一定选择压力下表现出了更强的竞争力,流行风险较高。4、快速检测桃疮痂病菌LAMP方法的建立。基于ITS序列设计了一套LAMP引物,以检测V.carpophila。与常规PCR方法相比,LAMP检测方法表现出更高的灵敏度和特异性。LAMP检测的极限DNA浓度为56.6 fg/μL,其灵敏度是PCR的100倍。同时,LAMP检测无需复杂设备,在较短的时间内即可获得准确结果。使用23株分离自14省的V.carpophila和其它8种真菌及1种细菌验证LAMP的特异性和通用性,结果表明该方法能特异性地检测出V.carpophila。此外,将田间桃果实样品的粗DNA用于LAMP检测,发现该方法也能准确地检测出患疮痂病的果实,而健康果实和阴性对照均为阴性。
潘云[4]（2021）在《基于TDLAS的热电厂一氧化碳气体监测方法研究》文中提出随着自然资源的消耗和环境污染的加剧,节能减排已成为全球关注的焦点。目前我国电厂的能源结构仍然以传统的化石能源为主,为了达到节约能源、降低污染的目的,有必要对热电厂锅炉进行燃烧优化控制。热电厂燃料不完全燃烧产生的一氧化碳（CO）气体可以作为燃烧优化的依据,同时CO作为一种易燃易爆和有毒气体,对它的实时在线监测势在必行,因此本文开展了热电厂一氧化碳气体监测方法研究。可调谐二极管激光吸收光谱（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy,TDLAS）技术,是利用气体分子对光的选择性吸收进行气体参数测量的技术。相比于其他气体检测技术,TDLAS具有显着优势:非接触测量、选择性好、响应速度快、灵敏度高、多组分多参数同时测量、系统简单,近年来已经逐渐应用到了燃烧诊断、工业过程监控、污染气体检测、医疗诊断、食品安全检测等各个领域。TDLAS技术在实际测量过程中,环境条件的变化会对浓度检测结果产生较大影响。然而,目前国内对特殊应用环境下（具体指存在烟尘颗粒物以及调制深度波动等影响因素）热电厂TDLAS气体检测系统精度的研究尚不深入,限制了该技术的进一步应用。针对如何提高复杂环境下热电厂CO浓度检测精度的问题,本文首先从总体角度对各项误差进行灵敏度分析与误差分配,得出需要重点控制的误差项;然后探讨两类重点误差因素对检测精度的影响机理并进行相应的修正,具体内容如下:（1）针对热电厂测量环境中多种误差因素影响下的TDLAS气体浓度检测系统总体误差分配的问题,本文首先基于波长调制光谱技术（Wavelength Modulation Spectroscopy,WMS）的浓度测量原理,分析总结了测量中存在的各误差项,建立了浓度测量系统的误差模型;其次采用随机化方法研究了各项误差对浓度误差的影响形式,计算出了各项误差对浓度测量误差的灵敏度大小关系,得出了需要重点控制的误差项;综合考虑测量需求、灵敏度关系和现有器件的水平等因素,对系统各项误差进行了合理分配;最后搭建了实验平台对CO浓度进行了测量。仿真和实验结果表明对于2.5%浓度的CO气体,测量的相对误差不超过1%。（2）针对热电厂测量环境中颗粒物导致的激光出射光强衰减进而影响浓度检测精度的问题,本文首先基于Mie散射理论分析了颗粒物对激光的吸收和散射作用,给出了其影响形式;其次根据WMS气体浓度检测原理,研究了颗粒物的透过率对检测系统出射光强和二次谐波信号的影响,得出了系统出射光强的斜率、二次谐波的峰值均与颗粒物透过率成线性关系的结论;基于此关系提出了利用出射光强信号的线性拟合斜率对二次谐波信号进行校正的方法,来消除颗粒物透过率的影响,并建立了气体浓度与校正后的二次谐波峰值之间的关系式;最后通过仿真对上述方法进行了验证。仿真结果表明,气体浓度与经出射光强斜率校正后的二次谐波峰值成线性关系,对于1.5%～5.5%浓度范围的气体,测量的相对误差不超过1%,均方根误差在10-4量级,有效降低了颗粒物的影响。（3）针对热电厂测量环境中温度、压强和调制电流等参数的波动带来调制深度变化进而影响浓度检测精度的问题,本文首先基于WMS浓度反演原理,分析了不同调制深度下二次谐波信号峰值和谷间距的变化;其次,提出了利用谷间距与调制深度的线性关系对调制深度进行标定的方法,并通过对峰值与调制深度的多项式拟合,建立了改进的浓度反演模型,将标定的调制深度作为变量加入到模型中,降低调制深度变化对测量的影响;最后对上述方法进行了仿真和实验验证。结果表明,对调制深度标定的均方根误差在10-2量级;改进的浓度反演模型相比传统的模型,浓度测量的均方根误差由10-4降低到了10-5量级,相对误差的最大值从1.68%降低到0.36%,验证了所提方法的有效性。本文提出的TDLAS浓度检测系统误差分配方法、以及对颗粒物和调制深度两类重点误差因素影响的校正方法,有利于提高热电厂CO气体浓度检测的精度,对于推进TDLAS技术的工程化应用有重要意义。
吴石磊[5]（2021）在《面向大口径光栅拼接的五自由度柔顺并联调姿机构研究》文中指出世界能源危机是人类面临的重大难题,激光惯性约束核聚变被认为是解决这一难题的重要手段。衍射光栅作为激光核聚变系统中的核心功能元件,是决定能否实现激光核聚变的关键。光栅在强激光打靶过程中极易受到物理损伤,增大其通光口径成为提高激光核聚变系统输出能量的主要技术手段之一。由于加工工艺的限制,通常利用光栅拼接调姿机构将多块小口径光栅进行机械式拼接的手段来制备大口径光栅。为保证打靶成功,调姿机构要保证拼接光栅间的平移误差达到纳米级,转动误差达到微弧度级,且打靶过程中保持长时间稳定。因此,光栅拼接调姿机构的运动精度和位姿保持精度是限制激光核聚变系统输出能量提升的主要瓶颈难题。本文面向光栅拼接调姿机构的高承载能力、高运动精度和高位姿保持性的实际设计需求,采用理论分析与实验相结合的方法,对空间柔性球铰链的力学建模、柔顺并联机构的弹性静力学建模、光栅拼接调姿机构的优化设计与位姿保持性控制等方面进行研究,旨在为大负载、高精度、高位姿保持性光栅拼接调姿机构的设计和控制提供理论及技术基础。鉴于空间柔性球铰链力学建模是柔顺并联机构设计和分析的基础,本文基于卡氏第二定理,建立空间柔性球铰链的力学模型,引入椭圆偏心角作为积分变量,推导椭圆弧型柔性球铰链的解析柔度矩阵。定义柔性球铰链的力学性能评价指标,根据力学模型分析各种椭圆弧型柔性球铰链的力学性能,揭示柔性球铰链的几何参数对铰链力学性能的影响规律,并优选出力学性能最佳的椭圆弧型柔性球铰链类型。以圆弧型柔性球铰链的理论模型为基础,考虑应力集中效应的影响,建立适用于不同几何参数的圆弧型柔性球铰链力学模型,为柔顺并联机构弹性静力学建模奠定基础,也为光栅拼接调姿机构的结构设计和尺寸优化等提供理论依据。针对柔顺并联机构力与位移高度耦合及柔性单元间复杂的串/并联拓扑连接形式,基于能量法提出一种柔顺并联机构通用弹性静力学建模方法,该方法避免了复杂内力分析及节点力平衡方程的求解。为解决该方法模型单元数较多不能显式表达柔顺并联机构输入/输出间力-位移关系的问题,本文结合柔度矩阵法和传递矩阵法,进一步提出一种基于子结构凝聚法的柔顺并联机构弹性静力学建模方法。从柔顺并联机构输入/输出的角度出发,以较少的单元数描述柔顺并联机构的静力学性能,为光栅拼接调姿机构的设计和分析提供一种简洁、有效的建模手段。为解决一般柔顺并联机构中存在的“大负载”与“高精度”之间的矛盾,引入驱动与承载单元解耦的思想,基于约束设计法提出了一种新型的五自由度光栅拼接调姿机构构型。利用子结构凝聚法,建立光栅拼接调姿机构的弹性静力学模型,研究调姿机构的输入柔度、输出柔度、运动学模型及各支链之间的运动耦合。为获得性能最优的光栅拼接调姿机构,以调姿机构的工作空间、运动分辨率和刚度等性能为目标,利用非支配排序遗传算法进行多目标优化设计,并对优化后光栅拼接调姿机构的性能进行分析与评估。为实现在激光打靶过程中光栅拼接调姿机构的高位姿保持性,研究调姿机构的闭环控制技术。首先推导调姿机构的逆运动学模型;然后建立调姿机构的位姿检测模型,实现调姿机构位姿的实时检测;最后结合调姿机构的逆运动学模型、位姿检测模型和闭环控制算法,实现调姿机构的位姿保持性控制。构建光栅拼接调姿机构原理样机以及控制系统和光学测量系统,基于搭建的一体化集成系统开展光栅拼接调姿机构原理样机的开环运动性能和位姿保持性等实验测试。通过测试调姿机构所能达到的性能指标,验证了本文设计的光栅拼接调姿机构原理样机能够满足设计要求。
张磊[6]（2021）在《峨眉山大火成岩省地幔源区的性质 ——来自丽江苦橄岩中橄榄石熔体包裹体的制约》文中研究说明许多大火成岩省被认为与地幔柱活动有关,因此对于研究地球地幔性质具有重要意义。在成分上,大火成岩省主要由拉斑玄武岩组成,通常认为这些玄武岩在喷发前经历了显着的演化,因此在研究地球地幔性质方面,一直是被忽视的,研究程度远没有洋岛玄武岩高。苦橄岩中通常具有高Fo的橄榄石,其内的熔体包裹体,能够捕获几乎未发生演化的、原始岩浆的成分,可以保留更多关于地幔源区组分的信息。峨眉山大火成岩省形成于约260Ma,被普遍认为是地幔柱成因的。许多研究者认为其源区中存在再循环物质,但再循环物质的性质仍不明确。本研究利用EPMA、SIMS和LA–MC–ICP–MS分析技术,对峨眉山大火成岩省中丽江地区橄榄石中熔体包裹体的主、微量元素和Pb同位素成分进行了分析,同时对寄主苦橄岩的主、微量以及同位素成分进行了分析,从而综合探讨丽江高钛苦橄岩（Ti/Y=645–654）的地幔组分特征及其成因。研究发现,丽江苦橄岩显示出的主、微量以及Sr-Nd-Pb-Hf同位素特征是均一且亏损的(87Sr/86Sri=0.70420–0.70429;εNd（t）=+3.27–+3.48;εHf（t）=+7.71–+8.04;208Pb/206Pbi=2.077–2.088;207Pb/206Pbi=0.833–0.843)。然而通过对其中的橄榄石熔体包裹体进行研究,可以发现熔体包裹体主、微量元素,尤其是Pb同位素成分具有较大的变化性,其熔体包裹体Pb同位素成分范围(208Pb/206Pbi=2.015–2.201;207Pb/206Pbi=0.812–0.882)基本是目前全球洋岛玄武岩成分范围的一半。经分析,丽江地区熔体包裹体中捕获的成分并没有遭受地壳物质混染,其大的成分范围反应了地幔源区小尺度的不均一性。熔体包裹体微量元素和Pb同位素具有相关性,指示出丽江苦橄岩的源区为一个具有FOZO特征的亏损组分+一个具有EM1特征的富集组分。该富集组分具有极高的208Pb/206Pb,低的Nb/La,Nb/Zr比值,暗示有壳源再循环物质的参与。在丽江熔体包裹体微量元素蛛网图上,可以识别出该组具有壳源特征的组分,该组分具有Nb、Ta、Zr、Hf的负异常,弱的Pb负异常甚至Pb正异,并且具有弱的Ba负异常。结合微量元素和同位素的模拟计算,本研究认为相比于“远洋沉积物”,一种类似于GLOSS II的沉积物可能更显着的存在于丽江地幔源区,并是导致源区中EM1特征的主要组分。同位素模拟结果显示,不同比例的古老的（2.35Ga）再循环物质（8%GLOSSII+92%洋壳）与FOZO地幔混合,可以形成丽江苦橄岩的Sr-Nd-Pb-Hf同位素特征,以及熔体包裹体极不均一的Pb同位素特征。虽然模拟受源区成分、同位素演化模型、脱水和熔融等因素的影响,但一个老的俯冲是必要的。鉴于峨眉山大火成岩省形成于约0.26Ga,因此该估算的再循环年龄也与前人认为洋壳的再循环会在地幔中经历1–2Ga的演化过程才会形成现今OIB的同位素特征是一致的。此外,本研究也将丽江熔体包裹体的成分与大理熔体包裹体成分进行了对比,并利用Al-in-ol温度计计算了丽江和大理橄榄石的结晶温度,得到丽江和大理橄榄石的最高结晶温度分别为1380°C和1433°C。本研究也利用该温度反推计算了地幔潜能温度,得到丽江和大理的地幔潜能温度分别为1450°C和1592°C,进而推测丽江苦橄岩来自于热能较低的地幔柱,对应于地幔柱轴部附近的地幔柱活动的衰退期。本研究认为,峨眉山大火成岩省中的高钛岩浆来源于地幔柱热能较低的部分或阶段,地幔柱热能的时–空变化是控制峨眉山大火成岩省镁铁质–超镁铁质岩浆地球化学特征的关键因素。
李云[7]（2021）在《新能源用典型锰基材料制备方法研究》文中研究指明随着新能源产业的高速发展,全球市场对硫酸锰、四氧化三锰等锰基材料的需求日益旺盛,同时对锰基材料的技术要求也更加严苛,这使得高品质锰基材料的制备研究备受业界关注。本文以菱锰矿浸出液为原料,首先分别开展了氟化-硫化沉淀法和分步沉淀法制备电池级硫酸锰的研究,考察了加料方式、通气方式等反应参数对杂质的脱除效果,获取了电池级硫酸锰制备的最佳工艺条件。在此基础上,开展了沉淀转化-焙烧法制备四氧化三锰的研究,考察了碱量、气流量等条件对产物形貌和粒度的影响规律,获取了球形微米级碳酸锰和四氧化三锰粉体的制备工艺条件,论文研究成果对于锰基新材料的制备具有一定的现实意义和应用价值。（1）加料方式对氟化沉淀法脱除菱锰矿浸出液中钙、镁杂质效果有显着影响。实验结果表明,当氟化锰用量超过40.9 g/L时,采用并流加料条件,钙、镁脱除率优于正加和反加条件,而氟化锰用量低于40.9 g/L时,正加和反加条件除杂效果更好。与此同时,三种加料方式下,并流加料条件对氟的引入量更高,正向加料所得沉淀渣的过滤速度较快,且随着氟化锰用量的增加,其过滤性能进一步得到改善,但其沉降性能较差。加入晶种有助于改善氟化沉淀物的沉降性能,特别是当晶种用量超过2.5 g/L后,沉降性能得到显着改善。以稀土氧化物为除氟剂,可以较好的脱除残留于溶液中的F-杂质,其脱除率可达99.67%以上。（2）理论计算结果表明,采用（NH4）2S可以有效脱除菱锰矿浸出液中的重金属杂质,且（NH4）2S对硫酸锰浸出液中重金属离子的脱除顺序为:Cu2+>Pb2+>Cd2+>Zn2+>Co2+>Ni2+>Mn2+。实验结果表明,当硫化铵溶液（1:50）用量为24 m L时,所得硫酸锰溶液中Pb2+、Zn2+、Cu2+、Cd2+等重金属离子浓度已经能够完全达到生产电池级硫酸锰的技术要求,但此时溶液中的Co2+、Ni2+仍未被脱除。而当使用（NH4）2S纯溶液为除杂剂,且其用量高于4.0 m L时,不仅能够将Pb2+、Zn2+、Cu2+、Cd2+等重金属离子脱除,还能将Co2+、Ni2+也完全脱除。（3）采用分步沉淀法制备电池级硫酸锰时,通气方式和沉淀剂种类对硫酸锰溶液中杂质离子的脱除具有决定性作用。分步沉淀法不仅可以分离钙、镁杂质,还可脱除重金属杂质。当沉淀剂加入阶段或保温阶段通入CO2时,所得沉淀颗粒尺寸较大,沉淀团聚现象严重,从而使得钙、镁沉淀物被包裹,致使碳化洗涤效果不佳。仅当沉淀剂加料和保温阶段均在惰性气氛或空气气氛下时,所得产物采用碳化洗涤可有效将钙、镁杂质脱除完全。（4）当采用沉淀转化法制备碳酸锰时,碱锰摩尔比对产物的形貌和粒度影响显着。当碱锰摩尔比低于2.4时,其形貌为不规则状,而当碱锰摩尔比高于3.0时,能够得到立方体形的碳酸锰颗粒,当碱锰摩尔比位于2.4至3.0之间时,会向球形碳酸锰演变,这与沉淀颗粒晶面的择优取向以及沉淀体系的过饱和度有关。（5）碳酸锰热解动力学研究表明,碳酸锰的热解主要分为两个阶段:在第一阶段,碳酸锰向Mn2O3转化,其反应活化能为317.03 k J/mol;第二阶段Mn2O3转化为Mn3O4,反应活化能为1455.66 k J/mol,这两阶段对应的动力学机理函数分别为G（α）=[-ln（1-α）]3/2和G（α）=[-ln（1-α）]3/4,其动力学机理模型均为随机成核和随后生长模型,进一步焙烧工艺的实验证实了采用两段焙烧工艺所得产物形貌符合随机成核和随后生长模型。（6）碳酸锰焙烧实验表明,当焙烧气氛为氧化气氛时,碳酸锰通常会优先分解生成Mn2O3,而Mn2O3的生成会导致Mn3O4的制备更加困难,从而使得焙烧温度通常需要高于900℃。理论计算发现,Mn O或碳酸锰在欠氧或惰性条件下会直接转化为Mn3O4,进一步的实验证实了低温焙烧制备Mn3O4的可行性。以碳酸锰为前驱体,采用两步煅烧工艺,在焙烧温度为500℃条件下即可获得形貌规整、无团聚的Mn3O4粉体。
许培文[8]（2021）在《电场诱导成型聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的研究》文中研究表明微透镜阵列作为一种重要的微光学元件,被广泛应用于显示、成像、传输、测绘等多个方面。微透镜阵列的制造技术成为国内外研究者们关注的热点。目前,已经有许多行之有效的微透镜阵列制造技术被提出,不同制造技术适用于不同的材料以及应用场景。本文基于聚氯乙烯（Polyvinyl chloride,PVC）凝胶材料独特的电致形变特性和优异的光电性能,提出了一种基于电场诱导成型制备PVC凝胶微透镜阵列制造方法。在PVC凝胶溶液中的溶剂挥发的过程中在环形图案化电极基板表面施加直流电压,在直流电场作用下,电负性的增塑剂分子向阳极迁移并在阳极表面聚集,待溶剂完全挥发后形成具有特定曲率的PVC凝胶微透镜阵列。本文主要开展了如下工作:1.通过溶液法制备PVC凝胶,选取PVC和增塑剂质量比为1∶9配比的PVC凝胶溶液制备PVC凝胶薄膜。对PVC凝胶及PVC凝胶溶液的性能进行表征,所使用的设备有紫外-可见分光光度计、阿贝折射仪、LCR测试仪和热重分析仪。通过紫外-可见分光光度计测量PVC凝胶薄膜在可见光范围内的透过率;通过阿贝折射仪测定PVC凝胶在常温（20℃）下的折射率;通过LCR测试仪可以获得PVC凝胶溶液及其各组分的介电常数;通过热重分析仪能够获得PVC凝胶的热失重情况。基于以上材料性能的表征数据,分析PVC凝胶材料用于制造微透镜阵列的可行性。2.提出了一种利用直流电场诱导PVC凝胶溶液在图案化电极基板表面形成具有特定曲率的PVC凝胶微透镜阵列制造方法。基于PVC凝胶溶液中的电负性增塑剂分子在直流电场作用下向阳极迁移的特性,设计了一种环形图案电极结构;采用光刻技术在氧化铟锡（Indium tin oxide,ITO）玻璃表面制作出环形图案电极结构;利用COMSOL Multiphysics有限元模拟软件对环形图案电极表面的电场分布进行分析。通过显微红外光谱测定未加电场作用下PVC凝胶和在直流电场诱导下环形图案电极基板不同区域PVC凝胶的分布情况,验证实验方案的可行性。随后介绍了电场诱导成型PVC凝胶微透镜阵列的制备工艺流程,并对所制造的PVC凝胶微透镜阵列的性能进行测试。使用金相显微镜测试PVC凝胶微透镜阵列的表面形貌;使用白光干涉仪测试PVC凝胶微透镜的表面轮廓,根据轮廓高度与微透镜焦距的计算公式计算其焦距;搭建光学平台测试PVC凝胶微透镜阵列的聚焦能力;使用金相显微镜测试PVC凝胶微透镜阵列的成像质量。基于以上测试结果分析所提出PVC凝胶微透镜阵列制造工艺的可行性。3.深入研究电场诱导成型PVC凝胶微透镜阵列的制造工艺。通过固定环形图案电极结构和PVC凝胶溶液体积,调控PVC凝胶溶液的诱导电压,以调节PVC凝胶微透镜的表面轮廓和曲率半径;通过固定环形图案电极结构和诱导电压,调控PVC凝胶溶液体积以调节PVC凝胶微透镜的表面轮廓和曲率半径;通过设计环形图案电极内圆直径及内圆排布方式,制备不同孔径和不同填充率的PVC凝胶微透镜阵列。对所制备的PVC凝胶微透镜阵列的表面轮廓、成像质量、聚焦能力分别进行测试,得出制备PVC凝胶微透镜阵列的最佳工艺参数。通过以上研究,为基于电场诱导成型PVC凝胶微透镜阵列制造提供实验方法和理论支持。
张程[9]（2021）在《带内泵浦钬掺杂氟化物中红外激光器研究》文中研究说明2.1μm钬激光位于水的吸收峰和“大气窗口”内,在大气监测、遥感、军事以及医疗等领域有重要的应用价值。随着新型人工激光材料生长技术的不断发展,直接泵浦的中红外固体激光器件由于结构紧凑、稳定高效等优点备受关注,并不断开拓出新的重要应用。基于带内泵浦掺钬氟化物产生2.1μm激光是一条重要的技术途径,采用掺铥1.9μm激光器泵浦掺钬增益介质的2.1μm中红外激光器,具有转换效率高、体积小、光束质量好等特点,是实现高能量、大功率2.1μm激光输出的重要技术手段,是当前激光领域的研究热点之一,有着重要的发展前景。“一代材料,一代器件”,新的激光增益介质以及新型低维饱和材料的出现,为研制新一代高效钬掺杂中红外脉冲激光器提供了机遇,本论文从理论和实验两方面围绕掺钬氟化物增益介质和新型可饱和吸收调制器件,研究了2.1μm固体激光被动调Q、被动锁模运转的动力学机理,实现了带内泵浦Ho3+掺杂氟化物增益介质的2.1μm脉冲激光稳定运转。结合晶体物理,从理论和实验上研究了钬掺杂氟化物晶体和单晶光纤的光谱性质和能量传递过程,搭建了相关的激光试验样机,实现了高效的激光输出,相关结果为该类小型化2.1μm激光器的研制提供了技术参考,同时也为相关材料的优化制备提供了一定的参考依据。本论文的主要研究工作如下:1.分析中红外2.1μm激光的应用及产生途径。介绍了连续激光调谐技术、短脉冲调Q技术以及超短脉冲激光的锁模技术;结合激光技术综述了钬掺杂激光器的研究进展,分析了钬掺杂氟化物材料的优良性能;最后对全文研究内容及意义进行了总结和展望。2.基于传统的Ho:YLF晶体和新型Ho:SrF2单晶光纤光谱特性的研究和表征,实现了带内泵浦掺钬氟化物晶体连续激光输出。其中,在能级寿命和光谱研究的基础上,结合Judd-Ofelt理论和Fuchtbauer-Ladenburg公式计算了Ho:SrF2单晶光纤的发射截面和有效增益截面,并结合实验验证了Ho:SrF2单晶光纤产生2.1μm波段激光的可行性。单晶光纤激光器输出功率突破瓦级,斜效率高达48.2%。进一步借助双折射石英片对Ho:YLF晶体和Ho:SrF2单晶光纤进行连续激光调谐实验研究,高的输出功率和宽的连续调谐范围表明掺钬氟化物晶体具有实现超快激光运转的潜力。3.基于带内泵浦的被动调Q钬脉冲激光器的研究:利用mathcad软件设计合理的谐振腔,在此基础上分别搭建Ho:YLF块状晶体和Ho:SrF2单晶光纤激光器。成功制备了高性能的低维材料可饱和吸收体（银纳米棒和石墨炔）并在2.1μm附近对其进行了非线性光学表征,并首次将其作为被动调Q开关器件,用于带内泵浦钬激光器中,分别实现了Ho:YLF块状晶体、Ho:SrF2单晶光纤脉冲激光的稳定输出,重复频率在几十k Hz,脉冲宽度在百纳秒量级。4.带内泵浦主动调Q掺钬脉冲激光特性的研究:结合声光调制开关分别对Ho:YLF块状晶体以及Ho:SrF2单晶光纤进行声光调Q脉冲激光特性实验研究,获得了高能量脉冲激光的稳定运转。利用Ho:YLF晶体作为增益介质,在重复频率为100 Hz时,获得脉冲宽度为47.12 ns,相应的峰值功率为22.29 k W。Ho:SrF2单晶光纤声光调Q激光器中得到最窄脉宽为52.38 ns,峰值功率为24.43 k W。5.基于声光开关与金纳米双锥吸收体双损耗调制技术的脉冲激光特性研究,实现了脉宽有效压缩的带内泵浦Ho:YLF脉冲激光输出。结合理论分析,探究了两种Q开关在脉冲激光技术中的调制机理,为发展高对称性、窄脉宽的2.1μm小型脉冲激光器提供了有效的技术方案。6.基于SESAM可饱和吸收体的带内泵浦Ho:YLF超短脉冲激光特性研究:实现了2.1μm调Q锁模激光运转。通过ABCD矩阵理论计算和mathcad仿真模拟设计了锁模谐振腔,以半导体可饱和吸收镜SESAM为锁模调制器件,实现了100%调制深度的调Q锁模脉冲激光输出,锁模脉宽为1.22 ns,重频为109.8 MHz。7.开展了Tm晶体腔内泵浦Ho晶体同时实现两种不同波长的脉冲激光特性研究。分别用Tm:YLF和Tm:YAP晶体对Ho:YLF晶体进行腔内泵浦激光实验,在两种不同Tm晶体的激光抽运下成功获得2.1μm的激光输出。研究结果表明,腔内泵浦掺Ho3+激光增益介质的方法可以发挥LD和带内泵浦两方面的优势,更有利于室温下获得高效率的激光输出。
蒋文辉[10]（2021）在《涡旋光场注入的中红外波段光纤参量放大研究》文中提出涡旋光场由于独特的光学性质,在光学领域具有很高的应用价值,尤其在光镊技术、高分辨率成像、量子通信等应用领域。与一般的光束不同,涡旋光场的模场相位分布是不均匀的,其特殊的相位分布造成了它的等相位面为螺旋型结构,使之具有轨道角动量（Orbital angular momentum,OAM）,并且其光场中心存在相位奇点。近年以来有关涡旋光场的产生、传输和检测等研究层出不穷。其中,光纤中的涡旋光场具有更高的模式纯度和良好的传输特性,因此有关光纤中涡旋光场的产生和传输是当前的研究热点之一。光纤中的四波混频（Four-wave mixing,FWM）属于非线性参量过程,能够同时实现光波长转换和信号光放大。本文的主要工作是将光纤中的四波混频理论与涡旋模式理论结合,对光纤中的涡旋光场参量放大过程或波长转换过程进行数值分析,提供理论依据。主要研究结果如下:一、设计一种光子晶体光纤（Photonic crystal fiber,PCF）,具备足够的模式有效折射率差以保证中红外波段（2-6μm）涡旋模式OAM1,1的稳定传输和较高的高模式纯度,通过光纤结构优化调节FWM过程的相位匹配条件,最终利用2.8-2.89μm波段HE11作为泵浦光,1.91μm波段OAM1,1作为信号光,在5-6μm波段产生OAM模式。利用有限元方法计算矢量形式的重叠积分证明简并FWM中闲频光与信号光矢量模式是一致的。最后利用龙格库塔法求解简并FWM的耦合振幅方程,分别计算了不同光纤长度（2.0-2.8 m）或泵浦波长（2.80-2.89μm）对信号光增益谱以及闲频光转化效率的影响,其中计算结果表明,在不考虑光纤损耗的情况下,闲频光的转化效率可以达到21.96%。二、推导了适用任意模场条件的简并FWM耦合传输方程,并给出准确的FWM重叠积分形式。并且分析了HE11泵浦条件且信号光为OAM模式时的简并FWM,这种特殊情况下仍然可以使用传统的耦合振幅方程和重叠积分。最后分析了一般情况下的FWM各类模式的选择问题。分析了当由OAM模式参与FWM时,FWM过程需要满足轨道角动量守恒和自旋角动量守恒,这些工作为未来的相关实验研究提供了充分的理论基础。
二、1.3~1.55μm GAInNAsSb Lasers（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、1.3~1.55μm GAInNAsSb Lasers（论文提纲范文）
（1）覆层图案激光加工边缘锥角抑制与面域高效去除（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 课题背景及意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 激光加工侧壁锥角抑制研究现状 |
| 1.2.2 面域材料激光高效加工研究现状 |
| 1.3 研究目标 |
| 1.4 论文主要研究内容及章节安排 |
| 2 金属靶材移动脉冲激光烧蚀形貌有限元仿真及解析模型建立 |
| 2.1 移动脉冲激光能量分布方程及其加载方法建立 |
| 2.1.1 移动脉冲激光的能量分布方程描述 |
| 2.1.2 金属靶材对激光的吸收特性 |
| 2.1.3 激光热源载荷在有限元模型上的施加 |
| 2.2 基于生死单元技术的激光烧蚀截面轮廓有限元仿真 |
| 2.3 激光烧蚀截面轮廓解析计算模型建立及实验验证 |
| 2.3.1 激光烧蚀截面轮廓解析计算模型构建 |
| 2.3.2 实验材料 |
| 2.3.3 加工及检测设备 |
| 2.3.4 实验结果 |
| 2.4 本章小结 |
| 3 “刻蚀+侧壁修整”的激光铣削侧壁锥角抑制工艺 |
| 3.1 激光倾斜入射烧蚀截面轮廓计算模型推广 |
| 3.1.1 激光倾斜入射烧蚀截面轮廓解析计算模型建立 |
| 3.1.2 计算模型的实验验证 |
| 3.2 以垂直侧壁为目标的激光加工参数有序规划方法 |
| 3.2.1 激光束与工件相对位姿确定方法 |
| 3.2.2 激光能量密度确定方法 |
| 3.2.3 激光扫描速度确定方法 |
| 3.3 激光刻蚀边缘锥角抑制加工实验验证 |
| 3.3.1 微细直槽激光加工实验 |
| 3.3.2 面域蚀除激光加工实验 |
| 3.4 本章小结 |
| 4 蚀深约束下“离焦+能量补偿”的激光参数调控方法 |
| 4.1 激光烧蚀截面轮廓计算模型的离焦工况推广 |
| 4.2 激光刻蚀边缘溅射物的截面轮廓参数化表征 |
| 4.2.1 理论模型描述 |
| 4.2.2 修正的激光烧蚀截面计算模型实验验证结果 |
| 4.3 蚀深约束下虑及离焦与溅射物影响的激光能量补偿方法 |
| 4.3.1 激光能量密度补偿值计算方法 |
| 4.3.2 激光能量密度补偿实验验证结果 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 兼顾边缘质量与面域蚀除效率的表层图案双扫描策略加工方法 |
| 5.1 采用异种扫描策略的图案内外区划分方法 |
| 5.1.1 图形轮廓的等距偏置曲线求解 |
| 5.1.2 考虑进给速度可达性的图案内外区划分准则 |
| 5.1.3 面域加工激光扫描行距估算方法 |
| 5.2 曲线去自交与去相交解析计算方法研究 |
| 5.2.1 单一曲线的去自交方法 |
| 5.2.2 曲线对间的去相交方法 |
| 5.3 面向表层图案激光精密加工的CAM软件开发 |
| 5.4 实验验证 |
| 5.4.1 面域激光刻蚀基础实验验证 |
| 5.4.2 典型样件内外表面表层图案加工 |
| 5.5 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 |
| 致谢 |
（2）绝对式光栅尺可靠性研究与误差分析（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题背景及研究意义 |
| 1.2 光栅尺的分类及发展历程 |
| 1.2.1 光栅尺的分类 |
| 1.2.2 光栅尺的发展历程 |
| 1.3 光栅位移传感器的可靠性与误差研究现状 |
| 1.3.1 可靠性与误差的基本概念 |
| 1.3.2 可靠性与误差的研究现状 |
| 1.4 论文研究的主要内容与结构安排 |
| 第2章 绝对式光栅尺关键技术研究 |
| 2.1 绝对式光栅尺的工作原理 |
| 2.2 单轨绝对位置编码技术 |
| 2.3 莫尔条纹计量技术 |
| 2.4 单场扫描技术 |
| 2.5 ASIC光电器件 |
| 2.6 绝对式光栅尺的机械结构 |
| 2.7 本章小结 |
| 第3章 绝对式光栅尺可靠性研究 |
| 3.1 绝对式光栅尺故障模式及影响分析 |
| 3.2 绝对式光栅尺可靠性试验设备研制 |
| 3.3 绝对式光栅尺可靠性设计 |
| 3.3.1 尺壳与支撑件一体化 |
| 3.3.2 采用耐磨性好的顶片与顶针 |
| 3.3.3 采用一体化的光源 |
| 3.3.4 采用耐磨耐机油腐蚀的密封条 |
| 3.3.5 尺壳采用双层密封结构 |
| 3.3.6 采用可靠的运输固定件 |
| 3.4 绝对式光栅尺环境试验 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 绝对式光栅尺单周期内位置误差分析 |
| 4.1 莫尔条纹信号质量与绝对式光栅尺单周期内位置误差的关系 |
| 4.1.1 莫尔条纹信号质量指标 |
| 4.1.2 绝对式光栅尺单周期内位置误差 |
| 4.1.3 莫尔条纹信号质量指标变化对绝对式光栅尺单周期内位置误差的影响 |
| 4.2 影响绝对式光栅尺单周期内位置误差的因素 |
| 4.3 减小绝对式光栅尺单周期内位置误差的方法 |
| 4.3.1 提高绝对式光栅尺的装调精度 |
| 4.3.2 指示光栅的移相消谐波方法 |
| 4.3.3 基于光闸莫尔条纹方案的单场扫描方法 |
| 4.4 光栅副空间位置变化对单周期内位置误差的影响 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 绝对式光栅尺全量程内位置误差分析 |
| 5.1 绝对式光栅尺全量程内位置误差组成 |
| 5.2 减小绝对式光栅尺全量程内位置误差的方法 |
| 5.2.1 直接刻划1.5米母光栅 |
| 5.2.2 采用改进的母光栅拼接工艺 |
| 5.2.3 采用刚柔结合的尺壳固定方式 |
| 5.3 绝对式光栅尺全量程内位置误差测量 |
| 5.3.1 基于数控系统的绝对式光栅尺全量程内位置误差闭环测量 |
| 5.3.2 国产绝对式光栅尺与海德汉绝对式光栅尺全量程内位置误差对比 |
| 5.4 本章小结 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 论文主要工作 |
| 6.2 论文创新点 |
| 6.3 工作展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（3）中国桃疮痂病菌遗传多样性、侵染过程、抗药性及早期检测技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 缩略词表(Abbreviation) |
| 第一章 前言 |
| 1.1 桃疮痂病 |
| 1.1.1 桃疮痂病的分布、症状及病原 |
| 1.1.2 桃疮痂病的病害循环及发病条件 |
| 1.1.3 桃疮痂病的综合防治 |
| 1.2 黑星菌属真菌的研究概况 |
| 1.2.1 黑星菌属真菌的分类研究 |
| 1.2.2 常见作物疮痂病病原菌种类 |
| 1.3 病原菌遗传多样性研究 |
| 1.3.1 真菌遗传多样性研究的方法 |
| 1.3.2 黑星菌属真菌遗传多样性研究 |
| 1.4 桃疮痂病菌对杀菌剂的敏感性 |
| 1.4.1 真菌对杀菌剂敏感基线的测定方法 |
| 1.4.2 微孔板法测定敏感基线 |
| 1.4.3 黑星菌属真菌的抗性研究现状 |
| 1.4.4 MBC类杀菌剂抗性产生的机理 |
| 1.5 黑星菌属侵染过程研究进展 |
| 1.5.1 侵染过程研究方法 |
| 1.5.2 黑星菌属侵染寄主的过程 |
| 1.6 LAMP检测的应用 |
| 1.6.1 LAMP检测的原理及优点 |
| 1.7 论文研究目的与思路 |
| 第二章 中国桃疮痂病的病原种类鉴定及其遗传多样性分析 |
| 2.1 前言 |
| 2.2 材料与方法 |
| 2.2.1 样品采集与病原菌分离 |
| 2.2.2 供试培养基 |
| 2.2.3 形态学观察 |
| 2.2.4 基因组DNA提取 |
| 2.2.5 PCR扩增 |
| 2.2.6 系统发育分析 |
| 2.2.7 致病性测定 |
| 2.2.8 遗传多样性分析供试菌株 |
| 2.2.9 遗传多样性检测方法 |
| 2.2.10 遗传多样性与种群结构分析 |
| 2.3 结果与分析 |
| 2.3.1 苹果、梨、海棠果、梅、杏和桃疮痂病的田间发病症状 |
| 2.3.2 苹果、梨、海棠果、梅、杏和桃疮痂病菌菌株的收集 |
| 2.3.3 苹果、梨、海棠果、梅、杏和桃疮痂病菌系统发育学分析 |
| 2.3.4 苹果、梨、海棠果、梅、杏和桃疮痂病菌培养和形态特征 |
| 2.3.4.1 苹果疮痂病菌Venturia inaequalis的描述 |
| 2.3.4.2 梨疮痂病菌Venturia nashicola的描述 |
| 2.3.4.3 海棠果疮痂病菌Venturia asperata的描述 |
| 2.3.4.4 梅疮痂病菌Venturia carpophila的描述 |
| 2.3.4.5 杏疮痂病菌Venturia carpophila的描述 |
| 2.3.4.6 桃疮痂病菌Venturia carpophila的描述 |
| 2.3.5 分离自梅、杏和桃的Venturia carpophila比较 |
| 2.3.6 致病性回接 |
| 2.3.7 遗传多样性分析 |
| 2.3.7.1 SSR扩增产物的多态性 |
| 2.3.7.2 群体的遗传多样性 |
| 2.3.7.3 群体间的分子变异和遗传分化 |
| 2.3.7.4 种群结构分析 |
| 2.4 讨论 |
| 第三章 Venturia carpophila侵染桃叶片过程研究 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 材料与方法 |
| 3.2.1 供试植物 |
| 3.2.2 供试菌株 |
| 3.2.3 分生孢子悬浮液的制备 |
| 3.2.4 接种与取样 |
| 3.2.5 光学显微镜明场观察 |
| 3.2.6 激光共聚焦显微镜观察 |
| 3.2.7 扫描电镜观察 |
| 3.2.8 透射电镜观察 |
| 3.3 结果与分析 |
| 3.3.1 发病叶片纵截面显微观察 |
| 3.3.2 光学显微镜观察V.carpophila侵染桃叶片的过程 |
| 3.3.3 扫描电镜观察V.carpophila侵染桃叶片的过程 |
| 3.3.4 透射电镜观察V.carpophila侵染桃叶片的过程 |
| 3.3.5 V.carpophila侵染桃叶片过程示意图 |
| 3.4 讨论 |
| 第四章 中国桃疮痂病菌对五种杀菌剂的敏感性测定 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 材料与方法 |
| 4.2.1 供试菌株 |
| 4.2.2 供试药剂 |
| 4.2.3 供试仪器 |
| 4.2.4 供试培养液 |
| 4.2.5 微孔板法体系优化 |
| 4.2.6 供试菌株对5 种杀菌剂的敏感性 |
| 4.2.7 V.carpophila抗药性菌株抗性稳定性检测 |
| 4.2.8 V.carpophila抗性菌株适合度测定 |
| 4.2.9 V.carpophila田间致病力测定 |
| 4.2.10 DNA提取和抗性基因检测 |
| 4.2.11 数据分析 |
| 4.3 结果与分析 |
| 4.3.1 微孔板法检测体系优化 |
| 4.3.2 V.carpophila菌株对5 种杀菌剂的敏感性 |
| 4.3.3 多菌灵抗性菌株的抗性稳定性 |
| 4.3.4 多菌灵抗性菌株的适合度 |
| 4.3.5 V.carpophila田间致病力测定 |
| 4.3.6 V.carpophila抗性菌株的抗性机理 |
| 4.4 讨论 |
| 第五章 快速检测桃疮痂病菌LAMP方法的建立 |
| 5.1 前言 |
| 5.2 材料与方法 |
| 5.2.1 供试培养基 |
| 5.2.2 供试菌株 |
| 5.2.3 主要实验仪器 |
| 5.2.4 DNA模板的提取 |
| 5.2.5 实验试剂 |
| 5.2.6 引物设计 |
| 5.2.7 LAMP最初反应体系 |
| 5.2.8 LAMP反应的优化 |
| 5.2.9 LAMP的特异性检测 |
| 5.2.10 LAMP和常规PCR的灵敏度比较 |
| 5.2.11 LAMP反应的通用性测定 |
| 5.2.12 LAMP检测田间样品 |
| 5.3 结果与分析 |
| 5.3.1 引物的设计与筛选 |
| 5.3.2 LAMP反应体系优化 |
| 5.3.3 LAMP引物的特异性 |
| 5.3.4 LAMP反应和普通PCR的灵敏度比较 |
| 5.3.5 LAMP反应的通用性 |
| 5.3.6 LAMP检测田间样本 |
| 5.4 讨论 |
| 第六章 结论与展望 |
| 6.1 主要结论 |
| 6.1.1 明确了我国桃疮痂病的病原菌及其遗传多样性 |
| 6.1.2 描述了Venturia carpophila侵染桃叶片的过程 |
| 6.1.3 检测了中国桃疮痂病菌对五种杀菌剂的敏感性 |
| 6.1.4 建立了快速检测桃疮痂病菌的LAMP方法 |
| 6.2 主要创新点 |
| 6.3 研究展望 |
| 参考文献 |
| 附录 攻读博士学位期间发表的学术论文及专利 |
| 致谢 |
（4）基于TDLAS的热电厂一氧化碳气体监测方法研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题研究背景及意义 |
| 1.1.1 课题研究背景 |
| 1.1.2 气体检测方法 |
| 1.1.3 课题研究意义 |
| 1.2 TDLAS技术的国内外研究现状 |
| 1.2.1 TDLAS技术的产生与发展 |
| 1.2.2 TDLAS的国外研究现状 |
| 1.2.3 TDLAS的国内研究现状 |
| 1.2.4 TDLAS发展趋势和技术难点 |
| 1.3 论文研究内容和章节安排 |
| 1.3.1 论文研究内容 |
| 1.3.2 论文章节安排 |
| 第2章 气体光谱理论及TDLAS技术简介 |
| 2.1 气体吸收光谱基本理论 |
| 2.1.1 分子吸收光谱理论 |
| 2.1.2 分子红外吸收光谱特性 |
| 2.1.3 CO分子谱线选择 |
| 2.2 TDLAS技术测量原理 |
| 2.2.1 Lambert-Beer定律 |
| 2.2.2 直接吸收光谱技术 |
| 2.2.3 波长调制光谱技术 |
| 2.3 TDLAS检测系统构成 |
| 2.3.1 激光器及驱动器 |
| 2.3.2 气体池 |
| 2.3.3 探测器 |
| 2.3.4 锁相放大器 |
| 2.4 本章小结 |
| 第3章 TDLAS浓度检测系统误差分配方法研究 |
| 3.1 TDLAS浓度检测系统误差分析 |
| 3.1.1 浓度检测误差来源 |
| 3.1.2 浓度检测误差模型建立 |
| 3.1.3 各项误差对浓度误差的影响 |
| 3.2 TDLAS浓度检测系统各项误差分配 |
| 3.2.1 仿真系统建立 |
| 3.2.2 系统总体误差分配方案 |
| 3.2.3 仿真验证 |
| 3.3 CO浓度测量实验 |
| 3.3.1 测量系统搭建 |
| 3.3.2 实验验证 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 颗粒物对TDLAS浓度检测系统的影响研究 |
| 4.1 WMS浓度反演原理 |
| 4.2 颗粒物对检测系统的影响和消除方法 |
| 4.2.1 颗粒物对浓度测量的影响 |
| 4.2.2 基于出射光强斜率对二次谐波信号的校正 |
| 4.3 仿真验证 |
| 4.3.1 参数拟合 |
| 4.3.2 模型验证 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 基于二次谐波谷间距的调制深度校正方法研究 |
| 5.1 调制深度对传统浓度反演模型的影响 |
| 5.1.1 传统的WMS浓度反演模型 |
| 5.1.2 调制深度对二次谐波峰值的影响 |
| 5.2 调制深度对浓度检测影响的消除方法 |
| 5.2.1 基于二次谐波谷间距对调制深度的标定 |
| 5.2.2 改进的浓度反演模型 |
| 5.3 仿真验证 |
| 5.3.1 仿真系统的建立 |
| 5.3.2 参数拟合 |
| 5.3.3 模型验证 |
| 5.4 CO浓度测量实验 |
| 5.4.1 实验系统的搭建 |
| 5.4.2 参数拟合 |
| 5.4.3 模型验证 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 研究工作总结 |
| 6.2 创新点说明 |
| 6.3 研究展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（5）面向大口径光栅拼接的五自由度柔顺并联调姿机构研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 |
| 1.1.1 课题研究背景 |
| 1.1.2 研究的目的和意义 |
| 1.2 光栅拼接研究现状 |
| 1.2.1 光栅拼接机构 |
| 1.2.2 位姿保持性控制 |
| 1.3 柔顺并联机构研究现状 |
| 1.3.1 柔顺并联机构的应用 |
| 1.3.2 柔顺并联机构的设计方法 |
| 1.3.3 柔顺并联机构的弹性静力学建模方法 |
| 1.4 国内外研究现状综述 |
| 1.5 本文的主要研究内容及论文框架 |
| 第2章 空间柔性球铰链力学建模与性能分析 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 基于卡氏第二定理的椭圆弧型柔性球铰链力学建模 |
| 2.2.1 空间柔性球铰链力学模型 |
| 2.2.2 椭圆弧型柔性球铰链的解析柔度矩阵 |
| 2.2.3 椭圆弧型柔性球铰链的柔度模型验证 |
| 2.3 椭圆弧型柔性球铰链类型优选与性能分析 |
| 2.3.1 性能评价指标的定义 |
| 2.3.2 椭圆弧型柔性球铰链的类型优选 |
| 2.3.3 圆弧型柔性球铰链的性能分析 |
| 2.3.4 有限元仿真与实验验证 |
| 2.4 考虑应力集中效应的圆弧型柔性球铰链力学建模 |
| 2.4.1 圆弧型柔性球铰链的应力集中效应 |
| 2.4.2 考虑应力集中效应的力学模型 |
| 2.4.3 力学模型验证 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 柔顺并联机构的弹性静力学建模方法研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 基于能量法的柔顺并联机构通用弹性静力学建模 |
| 3.2.1 单元刚度矩阵的推导 |
| 3.2.2 柔顺并联机构通用弹性静力学模型 |
| 3.2.3 柔顺并联机构通用弹性静力学模型验证 |
| 3.3 基于子结构凝聚法的柔顺并联机构弹性静力学建模 |
| 3.3.1 单元传递矩阵的推导 |
| 3.3.2 柔顺并联机构弹性静力学模型 |
| 3.3.3 柔顺并联机构弹性静力学模型验证 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 五自由度光栅拼接调姿机构的优化设计与性能分析 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 光栅拼接调姿机构的设计 |
| 4.2.1 基于约束设计法的光栅拼接调姿机构构型综合 |
| 4.2.2 光栅拼接调姿机构的结构设计 |
| 4.3 光栅拼接调姿机构的参数优化 |
| 4.3.1 光栅拼接调姿机构弹性静力学模型 |
| 4.3.2 基于遗传算法的多目标优化 |
| 4.4 光栅拼接调姿机构的性能分析 |
| 4.4.1 工作空间分析 |
| 4.4.2 刚度分析 |
| 4.4.3 运动学分析 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 五自由度光栅拼接调姿机构构建与实验研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 光栅拼接调姿机构原理样机及实验系统搭建 |
| 5.2.1 光栅拼接调姿机构原理样机构建 |
| 5.2.2 光栅拼接调姿机构的控制系统搭建 |
| 5.2.3 光栅拼接调姿机构的光学测量系统搭建 |
| 5.3 光栅拼接调姿机构的性能测试 |
| 5.3.1 开环运动性能测试 |
| 5.3.2 位姿保持性测试 |
| 5.4 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 |
| 致谢 |
| 个人简历 |
（6）峨眉山大火成岩省地幔源区的性质 ——来自丽江苦橄岩中橄榄石熔体包裹体的制约（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 引言 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.2 研究方法和内容 |
| 1.3 完成的工作量 |
| 第2章 地质背景及样品 |
| 2.1 地质背景 |
| 2.2 样品描述 |
| 第3章 分析方法 |
| 3.1 样品准备 |
| 3.2 全岩主、微量元素分析 |
| 3.3 全岩同位素分析 |
| 3.4 橄榄石、尖晶石及熔体包裹体主量元素分析 |
| 3.5 熔体包裹体微量元素分析 |
| 3.6 熔体包裹体Pb同位素 |
| 第4章 分析结果 |
| 4.1 全岩主、微量元素及同位素 |
| 4.2 橄榄石和熔体包裹体的主量和微量元素 |
| 4.3 熔体包裹体Pb同位素 |
| 第5章 丽江苦橄岩地幔源区中的再循环物质 |
| 5.1 熔体包裹体成分的意义 |
| 5.2 丽江苦橄岩地幔源区特征 |
| 5.2.1 端元组分及特征 |
| 5.2.2 EM1 特征的来源 |
| 5.2.3 同位素模拟及再循环年龄 |
| 第6章 峨眉山大火成岩省中不同Ti/Y岩浆的成因 |
| 6.1 丽江和大理地区的岩浆成分与演化差异 |
| 6.2 丽江和大理苦橄岩Al-in-ol温度和地幔潜能温度 |
| 6.3 高钛–低钛岩浆成因与地幔柱模型 |
| 第7章 结论 |
| 参考文献 |
| 附录 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（7）新能源用典型锰基材料制备方法研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.2 电池级硫酸锰中杂质脱除研究现状 |
| 1.2.1 钾钠离子的脱除 |
| 1.2.2 铁铝离子的脱除 |
| 1.2.3 重金属离子的脱除 |
| 1.2.4 钙镁离子的脱除 |
| 1.3 四氧化三锰制备方法研究现状 |
| 1.3.1 金属锰粉悬浮液氧化法 |
| 1.3.2 锰盐氧化法 |
| 1.3.3 水热法 |
| 1.3.4 焙烧法 |
| 1.3.5 其他方法 |
| 1.4 其他锰基材料制备方法研究现状 |
| 1.5 课题研究目标及内容 |
| 1.5.1 研究目标 |
| 1.5.2 研究内容 |
| 第二章 氟化-硫化沉淀法制备电池级硫酸锰 |
| 2.1 实验设备及原料 |
| 2.1.1 实验设备 |
| 2.1.2 实验原料 |
| 2.2 实验方法 |
| 2.3 氟化沉淀法脱除钙镁工艺研究 |
| 2.3.1 理论计算 |
| 2.3.2 加料方式对钙镁脱除率的影响 |
| 2.3.3 加料方式对除杂后液中氟引入量的影响 |
| 2.3.4 加料方式对氟化沉淀渣过滤性能的影响 |
| 2.3.5 加料方式对氟化沉淀渣沉降性能的影响 |
| 2.4 其他杂质离子的脱除 |
| 2.4.1 重金属离子的脱除 |
| 2.4.2 钴镍离子的脱除 |
| 2.4.3 氟离子的脱除 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 分步沉淀法制备电池级硫酸锰 |
| 3.1 实验方法 |
| 3.2 理论分析 |
| 3.3 分步沉淀法制备电池级硫酸锰试验探究 |
| 3.3.1 不同实验条件对钙镁脱除程度的影响 |
| 3.3.2 加料方式与沉淀剂种类对钙镁脱除程度的影响 |
| 3.3.3 不同初始浓度对钙镁脱除程度的影响 |
| 3.3.4 不同通气方式对钙镁脱除程度的影响 |
| 3.3.5 通CO_2洗渣对钙镁脱除程度的影响 |
| 3.3.6 常温下优化实验条件 |
| 3.3.7 其他杂质离子的测定 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 沉淀转化法制备球形碳酸锰 |
| 4.1 实验方法 |
| 4.2 不同沉淀剂的选择 |
| 4.3 不同实验条件对碳酸锰形貌的影响 |
| 4.3.1 不同碱锰比对碳酸锰形貌的影响趋势 |
| 4.3.2 不同气流量对碳酸锰形貌的影响 |
| 4.4 形貌演变机理分析 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 碳酸锰焙烧法制备四氧化三锰 |
| 5.1 实验方法 |
| 5.2 碳酸锰热解动力学分析 |
| 5.2.1 热解动力学理论 |
| 5.2.2 热解动力学参数计算 |
| 5.2.3 机理函数模型的验证 |
| 5.3 焙烧工艺对产物物性的影响 |
| 5.3.1 焙烧温度和气氛对产物物性的影响 |
| 5.3.2 不同焙烧制度对产物物性的影响 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 结论与建议 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读学位期间的研究成果 |
（8）电场诱导成型聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 微透镜阵列的研究背景与意义 |
| 1.2 微透镜阵列的应用 |
| 1.3 微透镜阵列制造技术 |
| 1.3.1 光刻胶热熔法制造微透镜阵列 |
| 1.3.2 压印技术制造微透镜阵列 |
| 1.3.3 飞秒激光直写法制造微透镜阵列 |
| 1.3.4 喷墨打印法制造微透镜阵列 |
| 1.3.5 电润湿法制造微透镜阵列 |
| 1.4 聚氯乙烯凝胶微透镜阵列 |
| 1.5 本文的主要研究内容及创新点 |
| 1.5.1 本文的主要研究内容 |
| 1.5.2 本文的创新点 |
| 第二章 聚氯乙烯凝胶的制备与性能表征 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 聚氯乙烯凝胶的制备 |
| 2.2.1 实验原料 |
| 2.2.2 制备流程 |
| 2.3 聚氯乙烯凝胶的性能表征 |
| 2.3.1 聚氯乙烯凝胶的透过率 |
| 2.3.2 聚氯乙烯凝胶的折射率 |
| 2.3.3 聚氯乙烯凝胶溶液的介电性能 |
| 2.3.4 聚氯乙烯凝胶的热稳定性 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的制备与性能表征 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验材料及仪器 |
| 3.3 聚氯乙烯凝胶的电致形变机理 |
| 3.4 图案化电极的设计与制作 |
| 3.5 聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的制作工艺流程 |
| 3.6 聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的性能表征 |
| 3.6.1 聚氯乙烯凝胶微透镜中的组分分布 |
| 3.6.2 聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的表面形貌 |
| 3.6.3 聚氯乙烯凝胶微透镜的表面轮廓 |
| 3.6.4 聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的聚焦能力 |
| 3.6.5 聚氯乙烯凝胶微透镜的成像质量 |
| 3.7 本章小结 |
| 第四章 聚氯乙烯凝胶微透镜阵列光学参数的调控 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 聚氯乙烯凝胶溶液诱导电压的影响 |
| 4.2.1 不同电压诱导成型的聚氯乙烯凝胶微透镜的表面轮廓 |
| 4.2.2 不同电压诱导成型的聚氯乙烯凝胶微透镜的焦距 |
| 4.2.3 不同电压诱导成型的聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的聚焦能力 |
| 4.2.4 不同电压诱导成型的聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的成像质量 |
| 4.3 聚氯乙烯凝胶溶液体积的影响 |
| 4.3.1 不同溶液体积下制备的聚氯乙烯凝胶微透镜的表面轮廓 |
| 4.3.2 不同溶液体积下制备的聚氯乙烯凝胶微透镜的焦距 |
| 4.3.3 不同溶液体积下制备的聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的聚焦能力 |
| 4.3.4 不同溶液体积下制造的微透镜阵列的成像质量 |
| 4.4 环形图案电极结构的影响 |
| 4.4.1 不同尺寸电极图案下制造的微透镜阵列的表面轮廓 |
| 4.4.2 不同尺寸电极图案下制造的微透镜的焦距 |
| 4.4.3 不同尺寸电极图案下制造的微透镜阵列的聚焦能力 |
| 4.4.4 不同尺寸电极图案制造的微透镜阵列的成像质量 |
| 4.5 环形图案电极中内圆排布方式的影响 |
| 4.5.1 不同内圆排布方式的微透镜阵列的填充因子 |
| 4.5.2 不同填充因子的聚氯乙烯凝胶微透镜的表面轮廓 |
| 4.5.3 不同填充因子的聚氯乙烯凝胶微透镜的焦距 |
| 4.5.4 不同填充因子的聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的聚焦能力 |
| 4.5.5 不同填充因子的聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的成像质量 |
| 4.6 本章小结 |
| 第五章 全文总结与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 |
（9）带内泵浦钬掺杂氟化物中红外激光器研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 中红外2.1μm波段激光的应用 |
| 1.1.1 激光雷达与遥感测绘 |
| 1.1.2 光电对抗中的应用 |
| 1.1.3 医疗领域的应用 |
| 1.1.4 其它领域的应用 |
| 1.2 产生2.1μm激光的技术途径 |
| 1.3 带内泵浦掺钬固体激光器的研究进展 |
| 1.3.1 掺钬连续固体激光器 |
| 1.3.2 掺钬主动调Q激光器 |
| 1.3.3 掺钬被动调Q激光器 |
| 1.3.4 掺钬锁模超快激光器 |
| 1.4 本文所用激光增益介质 |
| 1.4.1 Ho:YLF晶体 |
| 1.4.2 Ho:SrF_2单晶光纤 |
| 1.5 2.1μm固体激光器的基础理论 |
| 1.5.1 调谐激光技术 |
| 1.5.2 调Q激光技术 |
| 1.5.3 锁模激光技术 |
| 1.6 本论文的主要研究工作及创新点 |
| 第二章 带内泵浦掺钬氟化物晶体连续激光特性研究 |
| 2.1 掺Ho晶体固体激光器速率方程 |
| 2.2 Ho:YLF晶体的光谱特性表征 |
| 2.3 基于Ho:YLF晶体的连续及调谐激光特性研究 |
| 2.4 Ho:SrF_2单晶光纤光谱特性表征 |
| 2.5 带内泵浦Ho:SrF_2单晶光纤连续以及调谐激光特性研究 |
| 2.6 本章小结 |
| 第三章 带内泵浦掺钬氟化物晶体被动调Q脉冲激光特性研究 |
| 3.1 mathcad数值仿真模拟 |
| 3.2 低维材料可饱和吸收体 |
| 3.3 带内泵浦Ho:YLF被动调Q激光特性研究 |
| 3.3.1 石墨炔可饱和吸收体的制备和表征 |
| 3.3.2 被动调Q实验装置 |
| 3.3.3 实验结果与讨论 |
| 3.4 带内泵浦Ho:SrF_2单晶光纤被动调Q激光特性研究 |
| 3.4.1 银纳米棒可饱和吸收体的表征 |
| 3.4.2 单晶光纤被动调Q实验装置 |
| 3.4.3 实验结果与讨论 |
| 3.5 本章小节 |
| 第四章 带内泵浦掺钬双损耗调制2.1μm激光器 |
| 4.1 Ho:SrF_2单晶光纤主动调Q脉冲激光器 |
| 4.2 Ho:YLF主动调Q脉冲激光器 |
| 4.3 基于金纳米双锥和声光晶体的双损耗Ho:YLF脉冲激光器的研究 |
| 4.3.1 金纳米双锥材料制备以及表征 |
| 4.3.2 双调制脉冲激光实验装置以及结果分析 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 带内泵浦Ho:YLF晶体超快激光特性研究 |
| 5.1 Mathcad数值仿真模拟 |
| 5.2 Ho:YLF的超短脉冲激光特性研究 |
| 5.2.1 实验装置图 |
| 5.2.2 实验结果与讨论 |
| 5.3 本章小结 |
| 第六章 腔内泵浦Ho:YLF晶体双脉冲激光特性研究 |
| 6.1 腔内泵浦技术 |
| 6.2 基于Tm:YLF的腔内泵浦Ho:YLF脉冲激光特性研究 |
| 6.2.1 LD泵浦Tm:YLF激光实验装置搭建 |
| 6.2.2 Tm:YLF 晶体腔内泵浦Ho:YLF 晶体激光实验研究 |
| 6.3 基于Tm:YAP腔内泵浦Ho:YLF脉冲激光特性研究 |
| 6.3.1 LD泵浦Tm:YAP激光实验装置搭建 |
| 6.3.2 Tm:YAP晶体腔内泵浦Ho:YLF晶体激光实验研究 |
| 6.4 本章小结 |
| 第七章 总结和展望 |
| 7.1 研究内容及主要结论 |
| 7.2 不足之处及下一步计划 |
| 参考文献 |
| 攻读学位期间参与的课题、获得的奖励及发表的论文 |
| 致谢 |
（10）涡旋光场注入的中红外波段光纤参量放大研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 光纤中的色散和非线性效应 |
| 1.1.1 光纤中的色散和损耗 |
| 1.1.2 光纤中的非线性效应 |
| 1.2 光子晶体光纤的发展及其非线性效应 |
| 1.2.1 光子晶体光纤的特点及其发展历史 |
| 1.2.2 光子晶体光纤中的非线性效应 |
| 1.3 四波混频效应及参量过程的发展 |
| 1.3.1 四波混频效应的发展 |
| 1.3.2 光子晶体光纤中的四波混频效应 |
| 1.4 涡旋光场的发展及其现状 |
| 1.5 本论文的主要内容 |
| 第二章 四波混频效应基本理论 |
| 2.1 非简并四波混频传输方程 |
| 2.2 简并四波混频耦合方程 |
| 2.3 相位匹配及其调控因素 |
| 第三章 涡旋光场及其参量过程 |
| 3.1 涡旋光场的基本理论 |
| 3.2 矢量光和涡旋光场的参量过程 |
| 第四章 涡旋光场注入的中红外波段光纤参量放大理论分析 |
| 4.1 物理模型 |
| 4.2 模场分析 |
| 4.2.1 矢量模式的模场分析 |
| 4.2.2 涡旋光场的模式分析 |
| 4.3 四波混频特性 |
| 4.3.1 信号光增益和闲频光转换效率与光纤长度的关系 |
| 4.3.2 泵浦波长对信号光增益谱和闲频光转化效率的影响 |
| 第五章 四波混频的矢量模式选择分析 |
| 5.1 矢量模式的耦合传输方程 |
| 5.2 DFWM的模式选择规则 |
| 5.2.1 基于矢量模式的DFWM模式选择规则 |
| 5.2.2 基于涡旋光场的DFWM模式选择规则 |
| 5.3 重叠积分的有限元计算 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 论文的研究结果 |
| 6.1.1 涡旋光场及其参量过程 |
| 6.1.2 涡旋光场注入的中红外波段光纤参量放大理论分析 |
| 6.1.3 四波混频的矢量模式选择分析 |
| 6.2 本文的创新点 |
| 6.3 工作展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 |
四、1.3~1.55μm GAInNAsSb Lasers（论文参考文献）
- [1]覆层图案激光加工边缘锥角抑制与面域高效去除[D]. 王健. 大连理工大学, 2021(01)
- [2]绝对式光栅尺可靠性研究与误差分析[D]. 杨帆. 中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所), 2021(01)
- [3]中国桃疮痂病菌遗传多样性、侵染过程、抗药性及早期检测技术研究[D]. 周扬. 华中农业大学, 2021(02)
- [4]基于TDLAS的热电厂一氧化碳气体监测方法研究[D]. 潘云. 中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所), 2021(08)
- [5]面向大口径光栅拼接的五自由度柔顺并联调姿机构研究[D]. 吴石磊. 哈尔滨工业大学, 2021(02)
- [6]峨眉山大火成岩省地幔源区的性质 ——来自丽江苦橄岩中橄榄石熔体包裹体的制约[D]. 张磊. 中国科学院大学(中国科学院广州地球化学研究所), 2021(01)
- [7]新能源用典型锰基材料制备方法研究[D]. 李云. 江西理工大学, 2021(01)
- [8]电场诱导成型聚氯乙烯凝胶微透镜阵列的研究[D]. 许培文. 合肥工业大学, 2021(02)
- [9]带内泵浦钬掺杂氟化物中红外激光器研究[D]. 张程. 山东师范大学, 2021(12)
- [10]涡旋光场注入的中红外波段光纤参量放大研究[D]. 蒋文辉. 合肥工业大学, 2021(02)